X射线光电子能谱仪（X-ray Photoelectron Spectroscopy，下称XPS）广泛应用于材料科学领域，主要用于固体材料的表面（2～3nm深度）元素成分和价态的定性和定量分析。XPS与成像功能和离子溅射刻蚀相结合，可以用于固体表面元素成分及价态的面分布和深度剖析；与离子蒸镀或其他分子束外延技术相结合，可以进行原位样品的制备及分析工作。XPS在新材料开发、功能薄膜的机理研究、纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、催化剂研究与失效分析等方面具有不可替代的作用。高分子类材料在X射线照射下物理化学性质容易发生改变，因此这类样品的XPS表征往往存在较大的难度，——样品制备和解谱都需要特别的技巧。

本次讲座邀请长期从事高分子材料研究，并在高分子材料XPS表征方面有丰富经验的北京化工大学程斌教授进行题为《高分子材料的XPS分析》的报告，欢迎感兴趣的老师和同学前来参与讨论。

时间：2013-10-9 15: 00~16: 30

地点：化学楼1568会议室

报告人：程斌教授

工作经历：

1987年至今北京化工大学材料科学与工程学院，教授

1997年至1999年法国国家科研中心研修

教育经历：

1979年9月至1983年7月南开大学高分子化学学士

1983年9月至1986年9月北京化工大学高分子材料硕士

主要研究领域：

新型高分子材料设计合成，基因转移材料设计合成，炭纳米化学修饰及纳米材料，表面表征技术。