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X射线光电子能谱仪(XPS)应用讲座

发布日期:2013-10-08 浏览量:

      X射线光电子能谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy,下称XPS)广泛应用于材料科学领域,主要用于固体材料的表面(23nm深度)元素成分和价态的定性和定量分析。XPS与成像功能和离子溅射刻蚀相结合,可以用于固体表面元素成分及价态的面分布和深度剖析;与离子蒸镀或其他分子束外延技术相结合,可以进行原位样品的制备及分析工作。XPS在新材料开发、功能薄膜的机理研究、纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、催化剂研究与失效分析等方面具有不可替代的作用。

高分子类材料在X射线照射下物理化学性质容易发生改变,因此这类样品的XPS表征往往存在较大的难度,——样品制备和解谱都需要特别的技巧。

本次讲座邀请长期从事高分子材料研究,并在高分子材料XPS表征方面有丰富经验的北京化工大学程斌教授进行题为《高分子材料的XPS分析》的报告,欢迎感兴趣的老师和同学前来参与讨论。

时间:2013-10-9  15: 00~16: 30

地点:化学楼1568会议室

报告人:程斌教授

工作经历:

1987年至 今北京化工大学材料科学与工程学院,教授

1997年至1999年法国国家科研中心研修

教育经历:

19799月至19837 南开大学 高分子化学 学士

19839月至19869月北京化工大学 高分子材料 硕士

主要研究领域:

新型高分子材料设计合成,基因转移材料设计合成,炭纳米化学修饰及纳米材料,表面表征技术。